工欲善其事，必先利其器。EDA行业虽然只占到半导体产业整体市场份额的2%左右，但是把EDA厂商比喻为撬动整个半导体行业的杠杆也不为过。 如果工艺发展的过于慢，EDA厂商还可以做到什么？ 最能挑动业界神经的，还是先进设备工艺节点的发展工程进度。
转入深亚微米工艺以后，特别是在是到现在的14、16nm制程，摩尔定律也许还有效地，但是半导体的学习曲线有可能早已遇上问题，单位面积上晶体管数量快速增长造成的成本上升速度早已没过去那么慢。先进设备工艺对于IC设计企业的成本压力也更加大，EDA厂商是怎么应付先进设备工艺挑战，又如何协助客户来减少研发成本的呢？图一半导体学习曲线 MentorGraphicsCEOWaldenC.Rhines先生指出，先进设备节点工艺对于EDA厂商是机遇也是挑战，如果工艺停滞不前，则EDA工具厂商的收益也不会受到影响。现在的先进设备工艺，例如FinFET，对于成品率和测试的市场需求都要花费比以往非常少的人力物力来解决问题，Mentor针对先进设备工艺有原始的解决方案，例如Mentor的DFT工具对于FinFET测试检验反对就非常有力。 而对于现在设计公司成本上升的问题，Rhines先生认为，如果单指物理设计(physicaldesign)并不不存在这个问题，而且EDA核心设计软件的成本是随着整个半导体工艺演化成比例上升的。
设计公司成本上升是现在简单芯片设计必须大量资源投放到嵌入式软件与系统设计等方面，大规模芯片设计的成本上升主要是由于系统集成必须更加多的人力资源，而不是因为工艺演变必须更大更慢的EDA工具所导致的。每一个新的节点的研发成本约是原有节点研发成本的三倍，我们都告诉半导体晶体管级别的成本大大上升是趋势，但是降低成本不仅只有增大特征尺寸(featuresize)这一种方法，有很多其他的方法可以减少晶体管的成本，增大尺寸只是其中之一。图二MentorGraphics公司CEOWaldenC.Rhines先生 Synopsys全球高级副总裁柯复华先生回应，EDA公司以往回头在技术的最前沿，来驱动CMOS逻辑制程的演变，但是Synopsys很早已意识到晶圆厂在类似工艺制程上面所做到的希望。
很多类似制程虽然不是使用最先进设备的节点，想做那个地步只不过不更容易。很多技术，例如高压(HighVoltage)、CMOS图像传感器(CMOSImageSensor)等，对于驱动、电流的拒绝都不是很更容易构建的。这些技术的发展也十分最重要，与摩尔定律的区别仅有在于这些技术不是由工艺尺寸增大而反映出来的。
Synopsys针对这一趋势，在几年前早已开始调整，在优先确保对于最先进设备技术的市场需求做到测试的同时，另外一方面也拉回来，对于过去较为成熟期的工艺节点，例如90、65nm，从显逻辑切换到类似工艺制程也做到了大量的反对工作，保证这个技术对客户有协助。Synopsys在这方面也有相当大的优势，就是其IP部分，Synopsys很多研发工程师做到的工作就是去符合客户对于类似制程的市场需求，客户的市场需求驱动了Synopsys的发展。
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